1、概述

　　VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

　　配置两个靶枪，一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为配套直流电源用于导电类材料的溅射镀膜;可制备多种薄膜，应用广泛;体积小，操作简便。

　　2、主要技术指标

　　电源：220V 50Hz

　　最大功率：<560W（不含真空泵）

　　极限真空度：<E-6mbar（配合本公司设备使用可达到E-5mbar）

　　工作温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）

　　靶枪数量：2个（可选配其他数量）

　　靶枪冷却方式：水冷

　　靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）

　　直流溅射功率：500W（可选）

　　射频溅射功率：300W/500W（可选）

　　载样台：Ø140mm

　　载样台转速：1rpm-20rpm内可调

　　保护气体：Ar、N2等惰性气体

　　进气气路：质量流量计控制2路进气，每个流量为100SCCM

　　尺寸：500mm×560mm×660mm

　　整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm

　　重量：160kg